| 品牌 | 昊量光電 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
X射線單色器（X射線布拉格光柵）
X射線單色儀是一種彎曲的單晶組分，能夠高效聚焦X射線發(fā)射。單色儀被廣泛應(yīng)用于多種領(lǐng)域——包括用于元素表面分析的X射線光電子能譜（XPS）、同步輻射束線聚焦以及受控核聚變研究設(shè)施中的等離子體診斷。
昊量光電推出的這款X射線單色儀在制造和測(cè)試單晶X射線光學(xué)方面發(fā)揮了廣泛的能力;采用嚴(yán)格的計(jì)量和質(zhì)量控制技術(shù)，結(jié)合專有的光學(xué)接觸方法，從而能夠向X射線光譜市場(chǎng)提供高質(zhì)量的彎曲晶體X射線光學(xué)，提升測(cè)量分辨率。
昊量光電推出的這款X射線單色儀基于對(duì)晶體材料的深入科學(xué)理解。根據(jù)定制規(guī)格生產(chǎn)平整和彎曲的X射線晶體，常見的是石英、硅或鍺單晶。不斷努力滿足彎曲晶體X射線光學(xué)客戶不斷變化的需求，致力于在不同晶體平面對(duì)復(fù)雜材料進(jìn)行稀釋和拋光，幫助客戶實(shí)現(xiàn)更高的反射率和能量分辨率。近期項(xiàng)目包括鈮酸鋰、砷化銦和銻化銦的定向、拋光和彎曲。
X射線單色器 （X射線布拉格光柵）產(chǎn)品特點(diǎn)：
包括環(huán)形、橢圓形、非球面和球面形狀在內(nèi)的雙彎晶體的曲率
通過干涉測(cè)量法驗(yàn)證的表面輪廓，其斜率誤差和半徑精度均得到嚴(yán)格控制
專有的拋光技術(shù)，旨在大程度減少內(nèi)部損傷和晶體平面變形
利用測(cè)量精度達(dá) 1 弧秒的 X 射線衍射儀實(shí)現(xiàn)精確的晶體定向
通過 X 射線成像技術(shù)對(duì)晶體質(zhì)量進(jìn)行驗(yàn)證，并確保批次之間的一致性
與真空兼容的由無氣逸出材料構(gòu)成的組件
幾何形狀和精度適合作用于實(shí)現(xiàn)微小的光斑尺寸
X射線單色器（X射線布拉格光柵）產(chǎn)品應(yīng)用場(chǎng)景：
同步輻射：彎晶聚焦單色儀用于光束線聚焦與單色化，提升 XAFS/XPS 實(shí)驗(yàn)的能量分辨率與光子通量
半導(dǎo)體：四晶單色器搭配 SiPM 探測(cè)器，用于晶圓缺陷檢測(cè)、薄膜成分分析與制程工藝控制
醫(yī)療成像：平晶單色器適配 CT 與放射治療設(shè)備，降低散射線，提升成像對(duì)比度與劑量精準(zhǔn)度
航空航天：定制化真空兼容單色儀用于材料無損檢測(cè)，保障結(jié)構(gòu)件缺陷識(shí)別精度
X射線單色器 （X射線布拉格光柵）產(chǎn)品規(guī)格：
| Diffraction Crystals | Quartz, Silicon, Germanium, Lithium Niobate, InSb, KAP, and RbAP |
| substrate Materials | Glass or Metal |
| Assembly Dimensions | Diameters up to 250 mm |
| Assembly Features | Notches, grooves, and inserts for easy integration and alignment TiLED crystals for large area coverage |
| Orientation Accuracy | Absolute to ± 10 arcsec ; Relative to ± 2 arcsec |
| slope Error | To λ/4 per inch @ 633 nm |
| Radius Tolerance | Accurate to within 1%, Rv/Rh ratio controlled for toroids |
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